某電廠鍋爐補給水系統(tǒng)采用全膜法技術(shù)（ UF+RO+EDI ），現(xiàn)運行中發(fā)現(xiàn)電除鹽出水異常，硅含量偏高，在線表計硅含量已到 8.5 μg/L，并且運行中逐漸上升，高峰值達(dá)到 9.9 μg/L，電導(dǎo) 0.066 μs/cm。進行人工取樣化驗，結(jié)果與在線表計一致。

故障原因分析：

（1）對RO 單支膜元件出水電導(dǎo)進行分析：從單支膜殼電導(dǎo)率可以可看出沒有明顯異常膜殼。說明膜元件未出現(xiàn)“O”形圈泄漏、望遠(yuǎn)鏡現(xiàn)象、膜表面磨損、產(chǎn)水背壓、泄漏等現(xiàn)象。

（2）通過對反滲透膜進行清洗，發(fā)現(xiàn)清洗液呈綠色。

初步判斷膜元件存在鐵鋁污染，應(yīng)該屬于膜降解及氧化問題。長期清洗及清洗時 PH、溫度控制不合理，導(dǎo)致了膜元件降解。處理方法及防護措施：

（1）更換被氧化的反滲透膜組件：由于反滲透膜氧化是一個不可逆的過程，建議更換兩套反滲透一級一段模塊。

（2）加強原水中的殘留余氯的檢測：嚴(yán)格控制超濾產(chǎn)水 ORP 在 200 MV 以下，對 ORP 表計定期校準(zhǔn)，探頭半年到一年更換一次，確保在線數(shù)據(jù)的實時性和準(zhǔn)確性；采用中浩遠(yuǎn)達(dá)反滲透還原劑來水中的余氯，并保持加藥箱的清潔。

（3）降低清洗強度：一方面運行上減少清洗次數(shù)；另一方面在清洗時要嚴(yán)格控制好清洗 PH 及溫度。

（4）堅持對反滲透膜非氧化性殺菌：定期使用中浩遠(yuǎn)達(dá)非氧化性殺菌劑對反滲透進行清洗，除去因微生物、有機物污染膜元件壓差升高的原因。

（5）控制反應(yīng)沉淀池出水水質(zhì)：微調(diào)反應(yīng)沉淀池聚合鋁加藥量，減少其后沉淀進入反滲透系統(tǒng)；控制反應(yīng)沉淀池出水余氯在 0.1～0.2mg/L，保證殺菌有效且不過量。

（6）容器管道清洗：每年對補給水系統(tǒng)各水池、水箱、管道進行清洗，除去系統(tǒng)中的微生物及金屬腐蝕物。

（7）對過濾介質(zhì)的定期更換：淺砂過濾器濾料的定期更換和自清洗過濾器的定期保養(yǎng)。

（8）增加污泥指數(shù)（SDI）在線監(jiān)測系統(tǒng)：因人工監(jiān)測的誤差，建議增加在線 SDI 監(jiān)測系統(tǒng)。自動、連續(xù)地監(jiān)測 UF 產(chǎn)水和 RO 進水的污染指數(shù)，能夠快速、準(zhǔn)確地反映補給水預(yù)處理系統(tǒng)的效果。

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