某除鹽水站混床出水電導率基本上保持在0.08μS/cm，硅基本上在1~2μg/L區(qū)域內。連續(xù)性運行10d左右電導率雖未明顯升高，但硅離子快速升高，從1~2μg/L快速升至20μg/L以上。造成可再生周期明顯偏短、可再生頻繁，消耗大量的酸、堿和水資源，廠內用水量無法得到保障。

江蘇中浩遠達技術員對以上問題做好分析及處理：

（1）混床出水硅成分超標準很有可能由陰床出水硅超標準造成，而陰床出水硅成分超標準又可能是基于陽床出水鈉離子超標準。

對陽床出水做好檢測，進水電導率為10μS/cm左右，出水電導率基本上在12~18μS/cm，且檢測數(shù)據(jù)顯示陽床出水鈉離子＜100μg/L，在正常區(qū)域內，故排除陽床漏鈉。

（2）硅化合物在水中的存有形態(tài)很復雜性，有離子態(tài)、聚合態(tài)和膠體態(tài)。強堿陰樹脂與硅化合物相互之間的反應不僅有離子交換過程，還有物理吸咐過程。強堿陰樹脂對陰離子的選擇性依次為SO42-＞NO3-＞Cl-＞OH-＞F-＞HCO3-＞HSiO3-，對硅酸根的選擇性差，且對膠體硅通常不產(chǎn)生離子交換反應，只有根據(jù)機械設備過慮和吸咐方式局部去除。

故判斷混床出水硅成分超標準與陰床、混床中的陰樹脂有關。

（3）觀察了混床反洗分層情況，得知反洗分層時陰陽離子樹脂界面不清晰。而反洗分層是否充分是危害混床可再生是否充分的關鍵因素。